該工藝采用RY-ET系列電子超純水設(shè)備，適用于計(jì)算機(jī)硬盤，集成電路芯片，半導(dǎo)體，顯像管，液晶顯示器，線路板等工藝用的純水，超純水，采用世界上最先進(jìn)的美國反滲透元件，壓力容器，高壓泵設(shè)備，配以先進(jìn)而又合理的預(yù)處理和后級(jí)處理備，生產(chǎn)出符合電子生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)的水?？刂撇糠莶捎眠M(jìn)口PLC控制，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)起停，加藥，及沖洗，自動(dòng)監(jiān)測(cè)各種運(yùn)行參數(shù)，并可實(shí)現(xiàn)運(yùn)行參數(shù)的存儲(chǔ)和打印。 功能 脫鹽率高，運(yùn)行壓力低的進(jìn)口超低卷式復(fù)合反滲透膜，產(chǎn)水水質(zhì)優(yōu)良，運(yùn)行成本低廉，使用壽命長。高效率，低噪音，品質(zhì)優(yōu)越的進(jìn)口高壓泵，減少能耗，降低運(yùn)行噪聲。配置自動(dòng)循環(huán)沖洗系統(tǒng)，以備膜污染后清洗之用?？鞗_閥定時(shí)沖洗膜表面，降低膜污染速度，延長使用壽命。降TOC紫外線裝置可有效降低TOC90%。膜脫氣裝置可使脫氣后水中溶解的氧DO小于5ppb。